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    超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹

    超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹

    發(fā)布日期:2022-09-30 來源: 點擊:

    1.研磨和清潔

    這一工藝過程對超聲波清洗設(shè)備的工作效率和產(chǎn)品的表面質(zhì)量極為重要。該機主要清理研磨粉、瀝青和油漆薄片。不同的研磨粉也有不同的型號,可以根據(jù)需要選擇。瀝青可以起到保護作用,防止鏡面被劃傷。清洗劑可以是半水清洗劑,也可以是有機溶劑清洗劑,可以保證研磨后的順利清洗。


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    超聲波清洗設(shè)備的工藝流程介紹


    2.涂層清洗

    涂裝前要清洗一次,主要是防止各種污染物附著在機器上,其中有指紋、灰塵等。都很常見。鏡片的清潔度直接決定了鍍膜工藝能否達到合格標準,所以鏡片在冷凍前的清洗和選擇好的清洗劑非常重要。不僅要考慮清洗劑的清洗能力,還要知道這類清洗劑是否具有腐蝕性。

    掌握這兩個清理程序?qū)Τ暡ㄇ逑丛O(shè)備會大有裨益,大家在使用時不妨參考一下。


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